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溝槽器件的制作方法

876   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:56:59
本發(fā)明提供了一種溝槽器件的制作方法,進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光直至外延層與阻止層的表面齊平為止,然后測(cè)量獲得硅襯底上方的阻止層的實(shí)際厚度,并根據(jù)硅襯底上方的阻止層的實(shí)際厚度進(jìn)行熱氧化生長(zhǎng),以將溝槽中硅襯底表面高度以上的外延層全部氧化為二氧化硅層,再刻蝕去除阻止層和二氧化硅層,既可以去除高于襯底表面的外延層又不會(huì)損傷到零層光刻標(biāo)記,如此,即可保證不會(huì)影響光刻對(duì)位,又可取得較佳的平坦化效果,避免外延層相對(duì)于硅襯底存在凸起使后道的柵氧、多晶工藝等形成臺(tái)階,有利于提高器件的耐壓等性能。
聲明:
“溝槽器件的制作方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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