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阻抗式微流控芯片的制作方法

839 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 08:56:57

本發(fā)明阻抗式微流控芯片的制作方法，包括以下步驟：①設計掩膜的AutoCAD文件；②將上述文件打印在透明掩膜板上；③將光刻膠甩到硅片上；④將掩膜板蓋在光刻膠上光刻顯影；⑤得到主模型；⑥涂覆PDMS、放置硅管；⑦將PDMS模型剝離主模型，將所需銅絲放置到豎直通道內(nèi)；⑧將PDMS模型I與另一個表面光滑的PDMS薄片粘在一起；⑨在水平通道注入氯化鉀溶液，在豎直通道注入去離子水；⑩以水平通道的銅絲為陰極，以豎直通道的銅絲為陽極進行電化學反應，將豎直的銅絲斷成上下兩段；移除水平通道的銅絲，用氯化氫清除通道中的氯化銅；本發(fā)明的積極效果是：形成的芯片電極表面光滑，斷面基本平行，適合于電阻抗的測量。

聲明：

“阻抗式微流控芯片的制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)