本發(fā)明公開(kāi)了一種基于劃痕誘導(dǎo)選擇性刻蝕的微流控SERS
芯片制備方法,包括以下步驟:S1、襯底預(yù)處理;S2、掩膜制備及圖案化;S3、活性基底制備;S4、微流控SERS芯片封裝,制備得到微流控SERS芯片;通過(guò)刻劃結(jié)合金屬輔助化學(xué)刻蝕在半導(dǎo)體襯底上簡(jiǎn)單快捷地制備出具有嵌套結(jié)構(gòu)的微通道,嵌套結(jié)構(gòu)經(jīng)沉積金屬顆粒即可形成微流道中具有拉曼光譜增強(qiáng)效果的活性基底??傮w而言,本發(fā)明所述加工方法具有工藝簡(jiǎn)單、加工效率高、成本低的特點(diǎn),可規(guī)?;a(chǎn)。本發(fā)明所制備的微流控SERS芯片具有較高的表面增強(qiáng)拉曼光譜活性、能實(shí)現(xiàn)對(duì)納摩爾濃度生化物質(zhì)的快速、高效、高靈敏度檢測(cè),具有很強(qiáng)的實(shí)用價(jià)值和廣闊的應(yīng)用前景,值得在業(yè)內(nèi)推廣。
聲明:
“基于劃痕誘導(dǎo)選擇性刻蝕的微流控SERS芯片制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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