本發(fā)明公開了一種基于強(qiáng)堿切割氧化石墨制備碳量子點(diǎn)的方法、其產(chǎn)品及應(yīng)用，目的在于解決現(xiàn)有化學(xué)切割法制備碳量子點(diǎn)時(shí)，往往需要在強(qiáng)腐蝕性介質(zhì)中，利用強(qiáng)氧化劑對石墨等材料進(jìn)行長時(shí)間氧化，操作條件較為危險(xiǎn)，放熱嚴(yán)重，不易放大，限制了該方法制備的碳量子點(diǎn)的應(yīng)用的問題。本發(fā)明利用氫氧化鉀與氧氣在高溫下切割氧化石墨烯，得到一種具有高羧基含量的碳量子點(diǎn)，其不需要長時(shí)間地在腐蝕性介質(zhì)中進(jìn)行氧化操作，使得實(shí)驗(yàn)技術(shù)的危險(xiǎn)性降低，更容易實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)，顯示了更為廣闊的應(yīng)用潛力。本發(fā)明提出一種利用強(qiáng)堿刻蝕氧化石墨烯，制備出一種新型碳量子點(diǎn)的方法，并將其應(yīng)用到了鈾酰離子的痕量檢測當(dāng)中，具有較高的應(yīng)用價(jià)值和較好的應(yīng)用前景。