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一架整片晶圓基片上硅晶體缺陷自動(dòng)垂直刻蝕儀

978   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:45:48
本發(fā)明公開(kāi)一架整片晶圓基片上硅晶體缺陷自動(dòng)垂直刻蝕儀,包括:機(jī)殼(1),其上設(shè)置有控制面板(2)及升降控制鍵(3);刻蝕槽,包括第一刻蝕槽(4)和第二刻蝕槽(5),分別對(duì)稱設(shè)置于刻蝕機(jī)械支架的兩側(cè),刻蝕槽為垂直式;刻蝕機(jī)械支架,包括水平移動(dòng)支架和晶圓樣品支架(8),水平移動(dòng)支架包括滑軌(6)以及滑塊(7),晶圓樣品支架(8)連接于滑塊(7)兩側(cè);滑塊(7)與升降裝置(9)相連接。所述刻蝕儀通過(guò)對(duì)整片晶圓基片采用垂直懸掛式刻劃以及自動(dòng)水平移動(dòng),有效去除化學(xué)刻蝕垃圾,避免引入人工缺陷假象,從而大大提高對(duì)硅晶體缺陷失效分析的準(zhǔn)確性,并通過(guò)雙槽設(shè)計(jì)提高硅晶體缺陷失效分析的快速性。
聲明:
“一架整片晶圓基片上硅晶體缺陷自動(dòng)垂直刻蝕儀” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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