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錫摻雜氧化鉬納米薄膜及其制備方法和近紅外光電探測器

1112 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 07:29:08

本發(fā)明公開了一種錫摻雜氧化鉬納米薄膜及其制備方法和近紅外光電探測器，該制備方法包括采用化學氣相沉積法制備氧化鉬納米薄膜；將亞錫鹽和還原劑加入鹽酸溶液中混合制備插層溶液；再將插層溶液滴至氧化鉬納米薄膜上，在50～70℃環(huán)境下進行插層處理。以上制備方法操作簡單，其中利用錫插層氧化鉬，可減少氧化鉬的禁帶寬度，實現(xiàn)對近紅外光子的高效吸收，所制得的錫摻雜氧化鉬納米薄膜體積大且厚度均勻，熱穩(wěn)定性好，可用于制備近紅外光電探測器。

聲明：

“錫摻雜氧化鉬納米薄膜及其制備方法和近紅外光電探測器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)