本實(shí)用新型公開一種放置空間可調(diào)的壓力原位XRD測(cè)試裝置,包括上法蘭組件和下法蘭組件,上法蘭組件包括調(diào)平法蘭底座、壓片、T型絕緣固定環(huán)、調(diào)平法蘭環(huán),T型絕緣固定環(huán)和調(diào)平法蘭底座連接,壓片設(shè)置在調(diào)平法蘭底座內(nèi),并通過(guò)T型絕緣固定環(huán)限定壓片在調(diào)平法蘭底座內(nèi)位置,調(diào)平法蘭環(huán)和調(diào)平法蘭底座連接;下法蘭組件包括下法蘭、調(diào)節(jié)壓臺(tái),調(diào)節(jié)壓臺(tái)和下法蘭連接,調(diào)節(jié)壓臺(tái)與壓片接觸設(shè)置,下法蘭和調(diào)平法蘭環(huán)連接;本實(shí)用新型通過(guò)調(diào)節(jié)調(diào)壓螺絲和彈簧壓臺(tái)之間的相對(duì)位置,可調(diào)節(jié)調(diào)壓彈簧的壓縮狀態(tài),從而可調(diào)節(jié)對(duì)待測(cè)電極片的壓力狀態(tài),從而可通過(guò)簡(jiǎn)單的操作,將機(jī)械壓力作用在電池電極片,實(shí)現(xiàn)不同壓力下的
電化學(xué)過(guò)程原位XRD測(cè)試。
聲明:
“放置空間可調(diào)的壓力原位XRD測(cè)試裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)