本發(fā)明屬于材料測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及了一種用于評(píng)估高反射率膜損耗穩(wěn)定性的X射線輻照測(cè)試方法。本發(fā)明利用X射線的電荷積累效應(yīng)，模擬高反膜因荷電積累的失效過(guò)程：采用的X射線源對(duì)高反膜表面進(jìn)行荷電處理，在累積的處理過(guò)程中；同時(shí)利用光電子能譜儀原位監(jiān)測(cè)高反膜表面化學(xué)態(tài)的變化，間斷的進(jìn)行XPS分析，檢測(cè)高反膜表面的各元素的化學(xué)態(tài)變化。通過(guò)對(duì)隨機(jī)選取的失效組樣品和非失效組樣品進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析，并引入α和β參數(shù)描述O1s峰的對(duì)稱性，只用到了兩個(gè)擬合參數(shù)，就可以評(píng)估輻照荷電老化時(shí)的損耗變化，便于工程實(shí)際應(yīng)用，是一種方便、快捷的判別方法。特別適合用于膜層材料工藝實(shí)驗(yàn)的快速優(yōu)化、工藝監(jiān)控等環(huán)節(jié)。