本發(fā)明涉及一種消除栽培基質(zhì)顆粒表面散射及水分影響的光譜檢測方法,包括如下步驟:S1、栽培基質(zhì)顆粒快速干燥去除所含的水分;S2、栽培基質(zhì)顆??焖俜鬯?;S3、利用目數(shù)≥50目的標(biāo)準(zhǔn)篩網(wǎng)對粉碎栽培基質(zhì)顆粒進(jìn)行篩選;S4、篩選后的栽培基質(zhì)顆粒光譜數(shù)據(jù)采集;S5、采用理化實驗測定栽培基質(zhì)顆粒待測化學(xué)成分理化值;S6、以3:1的比例將樣品集劃分為校正集和驗證集;S7、對校正集光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理,并利用校正集建立栽培基質(zhì)顆粒實測理化值與預(yù)處理光譜數(shù)據(jù)之間的關(guān)系模型,再利用驗證集數(shù)據(jù)檢驗?zāi)P偷念A(yù)測性能。該模型用于栽培基質(zhì)顆?;瘜W(xué)成分的快速檢測,并能有效地消除栽培基質(zhì)顆粒表面散射和水分對光譜預(yù)測結(jié)果的影響。
聲明:
“消除栽培基質(zhì)顆粒表面散射及水分影響的光譜檢測方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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