本實用新型公開了一種化學(xué)實驗用研磨裝置,包括底座,所述底座左右兩端分別設(shè)置有支架一與支架二,所述支架一與支架二頂部之間設(shè)置有橫板,所述底座中部設(shè)置有旋轉(zhuǎn)底座,所述旋轉(zhuǎn)底座上放置有研磨盤,所述研磨盤上設(shè)置研磨墊,所述研磨盤右側(cè)設(shè)置有研磨墊平整器,所述橫板中部與研磨盤相對應(yīng)位置設(shè)置有電機,所述電機上安裝有伸縮轉(zhuǎn)軸,所述伸縮轉(zhuǎn)軸頂部設(shè)置有研磨頭,所述支架一右側(cè)設(shè)置有激光發(fā)射器,所述支架二左側(cè)與激光發(fā)射器相對應(yīng)位置設(shè)置探測器。通過利用電機帶動研磨頭工作,不需要人工操作,操作省時、省力,且提高了工作效率,同時設(shè)置伸縮轉(zhuǎn)軸,可以方便調(diào)節(jié)研磨頭與研磨盤的高低,滿足了我們的不同需求,提高了我們的使用效率。
聲明:
“化學(xué)實驗用研磨裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)