本發(fā)明公開了一種加熱腔室及等離子體增強化學氣相沉積裝置,包括裝載基片的載板,載板的下部固定有溫度變形器件,載板的下方側面對應于溫度變形器件的位置設有測量光柵。溫度變形器件能隨載板的溫度變化產(chǎn)生不同的變形,溫度變形器件形變通過光柵的光量改變而捕捉,進而測量載板的溫度??梢蕴岣邷y溫精度;對于溫度過高的情況,可以測熱電偶無法承受的區(qū)域溫度。可以用于PECVD系統(tǒng)或其它需要在腔室內采用上下兩層紅外加熱的系統(tǒng),測量誤差較小。
聲明:
“加熱腔室及等離子體增強化學氣相沉積裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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