本發(fā)明提供一種氣體處理系統(tǒng)及化學(xué)氣相沉積設(shè)備,屬于微電子技術(shù)領(lǐng)域,其可解決現(xiàn)有的氣體處理系統(tǒng)的能源浪費(fèi)的問題。本發(fā)明的氣體處理系統(tǒng),其包括:用于從反應(yīng)腔室中抽取氣體的抽氣裝置、用于對(duì)從反應(yīng)腔室中抽取的氣體進(jìn)行處理的氣體處理裝置,所述氣體處理系統(tǒng)還包括:氣體監(jiān)測(cè)裝置,所述反應(yīng)腔室與抽氣裝置,抽氣裝置與氣體處理裝置均通過第一管道連接;所述氣體監(jiān)測(cè)裝置與第一管道氣路連接,用于將氣體電離,并俘獲電離產(chǎn)生的離子而產(chǎn)生電流;所述氣體監(jiān)測(cè)裝置與氣體處理裝置電連接,用于控制氣體處理裝置工作。本發(fā)明的氣體處理系統(tǒng)可用于化學(xué)氣相沉積設(shè)備,干法刻蝕工藝設(shè)備等基板處理工藝的設(shè)備中。
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“氣體處理系統(tǒng)及化學(xué)氣相沉積設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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