本實(shí)用新型涉及一種液態(tài)化學(xué)品溫控供應(yīng)系統(tǒng),包括至少一個(gè)化學(xué)品儲(chǔ)存室和至少一個(gè)反應(yīng)腔,每個(gè)化學(xué)品儲(chǔ)存室均對(duì)應(yīng)設(shè)置有化學(xué)槽循環(huán)加熱管路,所述化學(xué)槽循環(huán)加熱管路輸出端通過(guò)第一傳輸管路與各所述反應(yīng)腔連通;各所述第一傳輸管路中均設(shè)置有第一加熱器和第一溫度偵測(cè)計(jì),且所述第一溫度偵測(cè)計(jì)設(shè)置于所述第一傳輸管路與所述反應(yīng)腔相連接的一端的端口處;實(shí)現(xiàn)液態(tài)化學(xué)品到達(dá)各反應(yīng)腔時(shí)的溫度與從化學(xué)槽循環(huán)加熱管路輸出時(shí)的溫度一致。本實(shí)用新型還涉及一種晶圓刻蝕清洗設(shè)備,其能有效提高產(chǎn)品的工藝穩(wěn)定性。
聲明:
“液態(tài)化學(xué)品溫控供應(yīng)系統(tǒng)及晶圓刻蝕清洗設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)