本發(fā)明公開了用于熱控制光刻化學(xué)工藝的系統(tǒng)、裝置和方法。熱控制系統(tǒng)包括包含多個(gè)熱傳感器元件的多區(qū)帶熱感應(yīng)單元。這些熱元件被配置用于檢測襯底上多個(gè)預(yù)定義區(qū)帶的溫度。該系統(tǒng)還包括包含多個(gè)熱耦元件的多區(qū)帶熱調(diào)整單元,這些熱耦元件被配置用于調(diào)整預(yù)定義區(qū)帶的溫度。該系統(tǒng)還包括可操作地并且可通信地耦合到多區(qū)帶熱感應(yīng)單元和多區(qū)帶熱調(diào)整單元的熱控制器單元。熱控制器單元接收來自多區(qū)帶熱感應(yīng)單元的檢測溫度,處理所檢測的溫度信息,基于經(jīng)處理的溫度信息生成溫度控制信息,并將溫度控制信息傳輸?shù)蕉鄥^(qū)帶熱調(diào)整單元以調(diào)整預(yù)定義區(qū)帶的溫度。
聲明:
“光刻化學(xué)工藝的自適應(yīng)性熱控制” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)