本實(shí)用新型公開一種半導(dǎo)體清洗機(jī)化學(xué)品濃度控制系統(tǒng),包括化學(xué)清洗池、純水池、化學(xué)品池、廢水池和化學(xué)濃度檢測(cè)計(jì),其中,化學(xué)濃度檢測(cè)計(jì)安裝在化學(xué)清洗池內(nèi);所述純水池、化學(xué)品池和廢水池均通過管路與化學(xué)清洗池連通,其中,廢水池通過管路與化學(xué)清洗池底部連通;所述純水池與化學(xué)清洗池之間的管路上連接有第一流量計(jì)和第一電磁閥;所述化學(xué)品池與化學(xué)清洗池之間的管路上連接有第二流量計(jì)和第二電磁閥;所述廢水池與化學(xué)清洗池之間的管路上連接有第三流量計(jì)和第三電磁閥;所述流量計(jì)、電磁閥和化學(xué)濃度檢測(cè)計(jì)分別與控制器電連接。本實(shí)用新型能夠始終控制化學(xué)清洗池內(nèi)的化學(xué)品濃度在要求的范圍內(nèi),保證清洗后硅片的質(zhì)量。
聲明:
“半導(dǎo)體清洗機(jī)化學(xué)品濃度控制系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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