一種化學(xué)機(jī)械拋光襯墊,在以下條件下測量拋光基板在30℃和60℃下的儲(chǔ)存彈性模量時(shí),該化學(xué)機(jī)械拋光襯墊在30℃下的儲(chǔ)存彈性模量E′(30℃)小于或等于120MPa,而且在30℃下的儲(chǔ)存彈性模量E′(30℃)與在60℃下的儲(chǔ)存彈性模量E′(60℃)的比(E′(30℃)/E′(60℃))大于或等于2.5,條件如下:初始負(fù)荷:100g;最大偏移:0.01%;頻率:0.2Hz。使用上述化學(xué)機(jī)械拋光襯墊的化學(xué)機(jī)械拋光方法。該化學(xué)機(jī)械拋光襯墊可以抑止在化學(xué)機(jī)械拋光步驟中在被拋光表面產(chǎn)生刮痕,并且可以提供高質(zhì)量的拋光表面,而且該化學(xué)機(jī)械拋光方法通過使用該化學(xué)機(jī)械拋光襯墊而提供高質(zhì)量的拋光表面。
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