一種化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備及其滑片偵測(cè)方法,所述化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備包括:研磨盤,用于固定研磨墊;研磨頭,位于所述研磨盤上方,用于固定晶圓;傳感器,固定于所述研磨頭外壁上,且所述傳感器的檢測(cè)窗口朝向所述研磨盤;噴氣單元,固定設(shè)置于所述研磨盤一側(cè),用于向所述傳感器噴氣。所述化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的滑片偵測(cè)效果提高。
聲明:
“化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備及其滑片偵測(cè)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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