本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種檢測(cè)窗口的保護(hù)裝置及一種化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)，一對(duì)檢測(cè)窗口設(shè)置于連接反應(yīng)腔室的一氣體傳輸管道的兩側(cè)，在反應(yīng)腔室啟動(dòng)一清潔程序時(shí)，一檢測(cè)裝置通過(guò)一對(duì)檢測(cè)窗口檢測(cè)反應(yīng)腔室內(nèi)的氣體濃度，一對(duì)檢測(cè)窗口包括一第一檢測(cè)窗口和一第二檢測(cè)窗口；保護(hù)裝置用于將兩個(gè)檢測(cè)窗口與氣體傳輸管道內(nèi)的氣體隔離，保護(hù)裝置包括：一第一隔離閥，設(shè)置于第一檢測(cè)窗口與氣體傳輸管道之間；一第二隔離閥，設(shè)置于第二檢測(cè)窗口與氣體傳輸管道之間。有益效果：使用兩個(gè)隔離閥可以使兩個(gè)檢測(cè)窗口完全隔離反應(yīng)氣體，避免在不執(zhí)行清潔程序時(shí)反應(yīng)氣體附著在檢測(cè)窗口的表面，提高檢測(cè)窗口的使用壽命，以及提高清潔的效果。