本實(shí)用新型設(shè)及單光子發(fā)射及X射線計算機(jī)斷層成像設(shè)備質(zhì)量控制及性能檢測技術(shù)領(lǐng)域,尤其設(shè)及一種用于單光子發(fā)射及X射線計算機(jī)斷層成像設(shè)備標(biāo)定及質(zhì)量控制的一種復(fù)合模體,包括作為點(diǎn)源容器使用的離心管,還包括模體框架和矩形托盤;在所述矩形托盤上開設(shè)有多個供所述離心管貫穿的安裝孔;本實(shí)用新型的復(fù)合模體,可用于單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備的旋轉(zhuǎn)中心標(biāo)定、多針孔專用準(zhǔn)直器的幾何標(biāo)定、單光子發(fā)射與X射線斷層成像設(shè)備間的配準(zhǔn)融合標(biāo)定,還可以用于單光子發(fā)射斷層成像設(shè)備的系統(tǒng)對準(zhǔn)、固有重建空間分辨率、單光子發(fā)射與X射線斷層成像設(shè)備的圖像配準(zhǔn)精度等性能測試,使用方便、適用范圍廣泛,大大降低了檢測的成本、提高了檢測的效率。
聲明:
“用于單光子發(fā)射及X射線計算機(jī)斷層成像設(shè)備標(biāo)定及質(zhì)量控制的一種復(fù)合模體” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)