一種淺溝槽隔離結(jié)構(gòu)平坦化性能檢測方法,包括:提供形成淺溝槽隔離結(jié)構(gòu)的晶圓,所述淺溝槽隔離結(jié)構(gòu)的隔離氧化層進(jìn)行過平坦化處理;在所述晶圓上制作集成電路;對所述晶圓進(jìn)行晶圓可接受性測試;根據(jù)可接受性測試數(shù)據(jù)判斷淺溝槽隔離結(jié)構(gòu)平坦化性能;選出淺溝槽隔離結(jié)構(gòu)平坦化性能不合格的晶圓。所述檢測方法可以及早發(fā)現(xiàn)不合格的晶圓,并可以及時改進(jìn)淺溝槽隔離結(jié)構(gòu)平坦化工藝,而且,在晶圓進(jìn)入測試工藝提前進(jìn)行電性能測試,挑選出不合格產(chǎn)品,提高了出廠的晶圓的良率。
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