本發(fā)明提供了一種化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的研磨性能檢測(cè)方法。包括：利用化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備研磨襯底，并形成一反射層在研磨之后的襯底上，從而可以對(duì)反射層進(jìn)行光學(xué)檢測(cè)，在光學(xué)檢測(cè)過(guò)程中反射層能夠?qū)z測(cè)光束反射至一檢測(cè)感應(yīng)器上，檢測(cè)感應(yīng)器獲取針對(duì)于襯底表面的檢測(cè)信號(hào)，進(jìn)而可以檢測(cè)出襯底表面是否存在研磨缺陷，由此判斷化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的研磨性能。本發(fā)明中的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的研磨性能檢測(cè)方法，能夠有效提高化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備研磨性能的檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性，并且還有利于縮短檢測(cè)化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的研磨性能所需的時(shí)間，提高了化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的利用率。