一種直接熔煉設(shè)備包括:熔煉容器,固體供給裝置,氣體噴射裝置。該設(shè)備分為4個(gè)功能區(qū)域,這些區(qū)域繞容器周向間隔分布,從容器向外延伸;氧化氣體輸送管道裝置和廢氣管道裝置在第一區(qū)內(nèi)延伸,排出金屬裝置和排出金屬液流槽設(shè)置在第二區(qū);排渣裝置和排渣液流槽位于第三區(qū)。卸渣裝置和卸渣液流槽位于第四區(qū)域。這個(gè)布置減小了熱氣體、含金屬供給材料和熔融金屬與熔渣之間的干擾。
聲明:
“直接熔煉設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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