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電沉積制備ZIF-8復(fù)合膜的方法及其應(yīng)用

1115   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 02:40:11
一種電沉積制備ZIF?8復(fù)合膜的方法及其應(yīng)用,本發(fā)明涉及一種電沉積制備ZIF?8復(fù)合膜的方法及其應(yīng)用。本發(fā)明是為了解決現(xiàn)有制備方法存在的厚度不均、缺陷難以控制的問題。由基底膜和ZIF?8分離層構(gòu)成;分離層是一層致密、厚度均勻的ZIF?8晶體分離層膜孔小且均勻,膜層厚度均勻且薄,對于水中的小分子污染物分離能力較強。方法:基底膜濺射貴金屬導(dǎo)電后,將基底膜與石墨紙分別作為工作電極和對電極浸入盛有前驅(qū)液的電解池中以基底膜作為陰極,在常溫常壓下通過一步電沉積法合成。本發(fā)明所制備的復(fù)合膜對較小的染料分子表現(xiàn)出優(yōu)異的截留性能,通量較傳統(tǒng)方法制備的MOFs復(fù)合膜更大。本發(fā)明用于染料廢水截留。
聲明:
“電沉積制備ZIF-8復(fù)合膜的方法及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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