3N4納米線的SiHfBCN陶瓷及制備方法,復(fù)合材料"> 3N4納米線的SiHfBCN陶瓷及制備方法,本發(fā)明涉及一種富含Si3N4納米線的SiHfBCN陶瓷及制備方法,采用先驅(qū)體共混法將聚硼硅氮烷(PBSZ)和聚鉿氧烷(PHO)按照一定體積比例混合,加入一定含量的鎳系催化劑的飽和乙醇溶液,然后經(jīng)固化、裂解和高溫?zé)崽幚淼玫礁缓琒i3N4納米線的SiHfBCN陶瓷。Si3N4納米線的直徑小于50nm,長(zhǎng)度在10μm?200μm之間。Si3N4晶體的析出使SiHfBCN陶瓷對(duì)電磁波的響應(yīng)從吸收或反射變?yōu)槠高^。鉿元素的存在使Si3N4納米線在1600℃依舊穩(wěn)定存">
位置:中冶有色 >
> 富含Si3N4納米線的SiHfBCN陶瓷及制備方法