3N4納米線的SiHfBCN陶瓷及制備方法,復(fù)合材料"> 3N4納米線的SiHfBCN陶瓷及制備方法,本發(fā)明涉及一種富含Si3N4納米線的SiHfBCN陶瓷及制備方法,采用先驅(qū)體共混法將聚硼硅氮烷(PBSZ)和聚鉿氧烷(PHO)按照一定體積比例混合,加入一定含量的鎳系催化劑的飽和乙醇溶液,然后經(jīng)固化、裂解和高溫?zé)崽幚淼玫礁缓琒i3N4納米線的SiHfBCN陶瓷。Si3N4納米線的直徑小于50nm,長(zhǎng)度在10μm?200μm之間。Si3N4晶體的析出使SiHfBCN陶瓷對(duì)電磁波的響應(yīng)從吸收或反射變?yōu)槠高^。鉿元素的存在使Si3N4納米線在1600℃依舊穩(wěn)定存">

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富含Si3N4納米線的SiHfBCN陶瓷及制備方法

1052   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 17:40:58
本發(fā)明涉及一種富含Si3N4納米線的SiHfBCN陶瓷及制備方法,采用先驅(qū)體共混法將聚硼硅氮烷(PBSZ)和聚鉿氧烷(PHO)按照一定體積比例混合,加入一定含量的鎳系催化劑的飽和乙醇溶液,然后經(jīng)固化、裂解和高溫?zé)崽幚淼玫礁缓琒i3N4納米線的SiHfBCN陶瓷。Si3N4納米線的直徑小于50nm,長(zhǎng)度在10μm?200μm之間。Si3N4晶體的析出使SiHfBCN陶瓷對(duì)電磁波的響應(yīng)從吸收或反射變?yōu)槠高^。鉿元素的存在使Si3N4納米線在1600℃依舊穩(wěn)定存在,同時(shí)由于非晶相富含鉿元素,因而此方法制備的SiHfBCN陶瓷也具有優(yōu)異的抗燒蝕性能。本發(fā)明能夠適用于復(fù)合材料,可用作涂層或基體,充當(dāng)電磁波阻抗匹配層,同時(shí)可有效提高其在超高溫環(huán)境下的抗燒蝕能力。
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“富含Si3N4納米線的SiHfBCN陶瓷及制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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