本發(fā)明公開了一種薄壁尖錐回轉(zhuǎn)件的CVI導(dǎo)流裝置及其使用方法，該裝置包括：支架、外壁導(dǎo)流錐筒和內(nèi)壁導(dǎo)流截錐；支架包括外殼和中央橫板，中央橫板上設(shè)置有放置孔，放置孔上設(shè)置有若干凸起；外壁導(dǎo)流錐筒的小端直徑大于凸起所形成的空心圓直徑，大端接觸外殼內(nèi)側(cè)壁，高度小于中央橫板上表面至外殼頂部的距離；內(nèi)壁導(dǎo)流截錐包括截錐段和直環(huán)段，截錐段高度小于外殼頂部至中央橫板上表面的距離，直環(huán)段內(nèi)徑小于外壁導(dǎo)流錐筒的大端直徑，直環(huán)段外徑大于外殼內(nèi)徑。該裝置可以改善陶瓷基復(fù)合材料薄壁尖錐回轉(zhuǎn)件內(nèi)壁和外壁沉積密度均一性，進而提高性能均勻性，消除殘余應(yīng)力，同時縮短致密化周期，并提高最終構(gòu)件密度和質(zhì)量。