本發(fā)明涉及一種具有由軟磁合金薄膜和聚合物層交替疊加形成多層復(fù)合磁芯的磁性元件。本發(fā)明采用的技術(shù)包括金屬種子層濺射工藝，厚金屬層電鍍工藝，軟磁合金、聚合物層電鍍工藝，軟磁合金化學(xué)鍍工藝，厚膠光刻工藝、刻蝕工藝等實(shí)現(xiàn)磁性元件的制作。本發(fā)明基于MEMS技術(shù)的多層復(fù)合材料用于制造具有各向異性特性的多層磁芯，通過直接電鍍或電鍍與化學(xué)鍍結(jié)合的方法制備多層磁芯。多層磁芯由交替的軟磁合金薄膜和聚合物層組成，此磁芯具備所需的各向異性特性，這有助于提高磁性元件高頻性能，減小磁性元件的體積和高頻渦流損耗，此外這種制作方法相對(duì)傳統(tǒng)的與逐層沉積種子層結(jié)合的電鍍工藝，減少了大量的光刻和刻蝕等步驟，大大節(jié)約了制造成本。