本發(fā)明公開(kāi)了一種用于利用電磁成像勘探表征儲(chǔ)層的方法,所述方法包括以下步驟:通過(guò)發(fā)射器磁矩歸一化所測(cè)量的電壓數(shù)據(jù);將歸一化的電壓數(shù)據(jù)分選到公共接收器剖面中;對(duì)于接收器剖面使用公共位置對(duì)發(fā)射器位置進(jìn)行密集再采樣;在離散的發(fā)射器位置處對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行粗再采樣;定義用于反演的起始模型;通過(guò)因子對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行加權(quán);將歸一化的電壓數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成比值;使用比值反演方法計(jì)算電導(dǎo)率圖像;以及確認(rèn)反演已經(jīng)收斂并且圖像在地質(zhì)學(xué)上是合理的。然后可以顯示圖像。本發(fā)明可以用于井間、地面到井眼、和井眼到地面測(cè)量,通過(guò)本發(fā)明可以減小鋼套管的影響。
聲明:
“在電磁成像勘探中用于除去導(dǎo)電套管以及井眼和地面多相性的影響的方法和系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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