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鎳摻雜鈦酸鉛單晶薄膜及其制備和應用

752 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-02 00:40:03

本發(fā)明公開了一種鎳摻雜鈦酸鉛單晶薄膜及其制備和應用。該薄膜為表面光滑平整的鎳摻雜鈦酸鉛單晶薄膜，其具有平整的界面，厚度為200nm～3000nm。本發(fā)明是以鈦酸四正丁酯、硝酸鉛、六水合硝酸鎳為主要原料，以氫氧化鉀為礦化劑，引入共沉淀法，并以摻鈮的鈦酸鍶為基板，在200～220℃下進行水熱反應，制備得到鎳摻雜鈦酸鉛單晶薄膜。本發(fā)明制得的表面平整光滑的大面積異質外延薄膜，在鐵電存儲器、熱釋電傳感器、光波導、光探測和電光開關等領域具有廣泛的潛在應用前景。本發(fā)明方法的工藝過程簡單，易于控制，成本低，易于規(guī)?；a(chǎn)。

聲明：

“鎳摻雜鈦酸鉛單晶薄膜及其制備和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)