本發(fā)明公開(kāi)了一種用于
鈣鈦礦薄膜光電器件制備的溶液介質(zhì)退火方法。相對(duì)于當(dāng)前鈣鈦礦薄膜的制備采用的在氣相介質(zhì)中加熱退火的方式,本發(fā)明采用溶液介質(zhì)退火工藝,使得退火過(guò)程中的氛圍為易控制的液相(導(dǎo)熱油),從而提高了鈣鈦礦薄膜制備的可重復(fù)性,同時(shí)使薄膜的晶體質(zhì)量得到了很大的改善,最終使相應(yīng)
太陽(yáng)能電池器件的光電轉(zhuǎn)換效率和穩(wěn)定性得到顯著的提升。本發(fā)明公開(kāi)的溶液介質(zhì)退火工藝可廣泛應(yīng)用于
鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、鈣鈦礦發(fā)光二極管、鈣鈦礦光電探測(cè)器等諸多光電器件的制備。
聲明:
“用于鈣鈦礦薄膜光電器件制備的溶液介質(zhì)退火方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)