本實(shí)用新型公開了一種測(cè)量管道礦漿濃度的裝置,包括探測(cè)支架、放射源和同位素濃度計(jì),同位素濃度計(jì)設(shè)有探棒,放射源放于鉛罐內(nèi),鉛罐的底部設(shè)有射線出口,探測(cè)支架包括上板、下板、防護(hù)鉛板和連接桿,上板位于礦漿管道的上方,下板位于礦漿管道的下方,防護(hù)鉛板位于下板的下方,鉛罐擱置在上板的上表面,上板與礦漿管道之間固定有第1左支板和第1右支板,下板與礦漿管道之間固定有第2左支板和第2右支板;連接桿將上板、下板和礦漿管道固定在一起;連接桿的下方懸掛有防護(hù)鉛板,防護(hù)鉛板和下板之間留有間隙,探棒位于下板和防護(hù)鉛板之間的間隙內(nèi)且位于所述射線出口的正下方。本實(shí)用新型對(duì)探棒下方的空間進(jìn)行安全防護(hù),結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單和成本低。
聲明:
“測(cè)量礦漿濃度的裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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