本實用新型公開了一種高純銦制備裝置的電氣控制及監(jiān)控系統(tǒng),涉及
有色金屬冶金技術(shù)領(lǐng)域。包括上位機組態(tài)層,所述上位機組態(tài)層通過通訊交換機層分別向多個集中數(shù)據(jù)處理塊層發(fā)出控制指令,所述集中數(shù)據(jù)處理塊層將所述控制指令傳送到所述電解槽,所述電解槽在電解過程中的數(shù)據(jù)通過數(shù)據(jù)采集層回傳到上位機組態(tài)層,所述數(shù)據(jù)包括所述電解槽電壓、電流、PH值。本實用新型可以解決現(xiàn)有技術(shù)利用人工巡檢的方式,對電解過程中的過程數(shù)據(jù)需定時抄表檢測,數(shù)據(jù)量大,統(tǒng)計難度大,對后期電解過程中過程監(jiān)控數(shù)據(jù)的分析,特別是電解產(chǎn)線較多時的質(zhì)量控制造成嚴重影響的問題。
聲明:
“高純銦制備裝置的電氣控制及監(jiān)控系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)