本發(fā)明屬于冶金熔煉技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種電子束熔煉用的輻射攔截專用裝置。裝置中輻射攔截罩位于熔煉坩堝上方,且通過(guò)滑動(dòng)懸掛桿活動(dòng)安裝于爐壁的頂部,輻射攔截罩與滑動(dòng)懸掛桿之間通過(guò)懸掛鉸接扣活動(dòng)連接,輻射攔截罩為球面形狀,其凹面朝下,凹面聚焦點(diǎn)位于熔煉坩堝中心,其上還開有一個(gè)圓弧形缺口。本發(fā)明設(shè)備具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,功能實(shí)用,制作方便的優(yōu)點(diǎn),輻射攔截罩可將硅熔體的熱輻射、被硅熔體表面反射的電子束束流攔截回來(lái),重新作用于硅熔體表面,大大提高了電子束能量利用率,提高幅度達(dá)20~50%。
聲明:
“電子束熔煉用坩堝的輻射攔截裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)