本發(fā)明公開了一種鎂合金的高強(qiáng)高韌膜層及其制備方法,屬于微弧氧化領(lǐng)域。本發(fā)明的鎂合金的高強(qiáng)高韌膜層的制備方法,采用微弧放電在鎂合金表面進(jìn)行原位生長生成具有微孔結(jié)構(gòu)的膜層,在微弧放電的過程中釔鹽?鋯鹽體系電解液將在鎂合金上生成Y
2O
3,Y
2O
3作為晶型穩(wěn)定劑,促使生成t?ZrO
2和c?ZrO
2不易發(fā)生晶型轉(zhuǎn)變,降低了晶型轉(zhuǎn)變過程中微裂紋的出現(xiàn),改善了表面強(qiáng)韌條件,進(jìn)而提高微弧氧化膜層的表面致密性,起到了增強(qiáng)增韌的效果,微孔結(jié)構(gòu)的膜層與基體結(jié)合方式為冶金結(jié)合,微孔結(jié)構(gòu)為原位生長,因此界面的結(jié)合力較好。
聲明:
“鎂合金的高強(qiáng)高韌膜層及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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