本發(fā)明公開(kāi)了一種地質(zhì)環(huán)境監(jiān)測(cè)裝置,包括機(jī)架、激光組件、施壓組件、反射組件和測(cè)量組件;反射組件、機(jī)架和測(cè)量組件排成一線,反射組件和測(cè)量組件分別位于機(jī)架兩側(cè);反射組件包括反射支架和安裝在反射支架上的反射板,測(cè)量組件包括測(cè)量支架和安裝在測(cè)量支架上的測(cè)量板,測(cè)量板的表面設(shè)置有刻度;激光組件安裝在機(jī)架上,激光組件射出的激光經(jīng)過(guò)反射板反射至測(cè)量板上;施壓組件安裝在機(jī)架上并對(duì)機(jī)架施加向下的壓力,壓力使得機(jī)架所在的土地加速沉降;當(dāng)機(jī)架隨著地面沉降之后,激光組件經(jīng)過(guò)反射板反射至測(cè)量板上的光點(diǎn)也會(huì)發(fā)生位置變化,通過(guò)光點(diǎn)的位置變量可以計(jì)算出地面的下降量,整個(gè)測(cè)量操作方便且誤差小。
聲明:
“地質(zhì)環(huán)境監(jiān)測(cè)裝置及其監(jiān)測(cè)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)