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高性能光熱轉(zhuǎn)化多基元合金氮化物薄膜及其制備方法

693   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 14:49:01
一種高性能光熱轉(zhuǎn)化多基元合金氮化物薄膜及其制備方法,采用粉末冶金法和真空電弧熔煉法成功制備出多基元合金濺射靶材,并采用真空磁控濺射鍍膜工藝通過(guò)改變?yōu)R射時(shí)間和工作氣壓制備出不同厚度的多基元合金氮化物薄膜,為太陽(yáng)能光譜選擇吸收涂層提供新材料。太陽(yáng)能選擇吸收涂層典型結(jié)構(gòu):紅外反射層、雙吸收層、減反層三明治結(jié)構(gòu),該涂層具有更高的吸收率和熱穩(wěn)定性。本發(fā)明在拋光的不銹鋼基體上濺鍍單層多基元合金氮化物薄膜,經(jīng)檢測(cè)單層多基元合金氮化物薄膜在太陽(yáng)能光譜范圍較其他單層光熱轉(zhuǎn)化薄膜具有更高的吸收率為79.82%,且獲得的多基元合金氮化物薄膜厚度均勻,與基體具有良好結(jié)合能力和耐高溫性能。本發(fā)明適用于高溫真空集熱管,在太陽(yáng)能光熱領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
聲明:
“高性能光熱轉(zhuǎn)化多基元合金氮化物薄膜及其制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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