本發(fā)明涉及
粉末冶金技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種金薄膜的反應(yīng)離子刻蝕方法。一種金薄膜的反應(yīng)離子刻蝕方法,包括以下步驟:沉積薄膜;獲得刻蝕掩膜;干法刻蝕。本發(fā)明提供的方法簡單,易于操作,通過本發(fā)明提供的方法得帶的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,性能優(yōu)良;且本發(fā)明提供的刻蝕技術(shù)刻蝕過程簡便且速率可控,適于大范圍推廣使用。
聲明:
“金薄膜的反應(yīng)離子刻蝕方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)