本實用新型涉及一種雙面加熱轉(zhuǎn)底爐,窯爐本體沿其圓周方向上依次設(shè)有預(yù)熱段、高溫還原段及冷卻段,高溫還原段包括高溫還原前段、中段及后段,前段窯墻上設(shè)有多個下燒嘴,中段窯墻上設(shè)有多個上燒嘴及下燒嘴,后段窯墻上設(shè)有多個上燒嘴,物料承載機構(gòu)包括耐火層及受料碳化硅板及料層,受料碳化硅板與耐火層之間設(shè)有與下燒嘴相配合的下加熱室,下加熱室與耐火層熱風(fēng)支路連通。本實用新型讓料層雙面加熱,使料層很快達到1000℃以上,實現(xiàn)和滿足碳基還原冶金理論和氫基還原冶金理論的基礎(chǔ)和基本要求;熱風(fēng)管路除了減少爐外設(shè)置金屬管散熱和投資,也充分利用了窯墻的耐材用量,增加窯墻的溫度及增加窯內(nèi)的熱風(fēng)量,實現(xiàn)余熱的綜合利用。
聲明:
“雙面加熱轉(zhuǎn)底爐” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)