本發(fā)明公開了一種Pb基/3D?PbO2/MeOx復(fù)合陽極及其制備方法,所述電極由Pb基底、3D?PbO2和金屬氧化物膜層組成。其制備方法是:首先采用
電化學(xué)陽極氧化方法在Pb基底表面構(gòu)建3D?PbO2結(jié)構(gòu),然后采用電化學(xué)沉積或化學(xué)沉積方法在3D?PbO2結(jié)構(gòu)內(nèi)部沉積金屬氧化物MeOx。3D?PbO2結(jié)構(gòu)可以增大Pb基底與金屬氧化物膜層的接觸面積,固定氧化物膜層,承受膜層內(nèi)部由于電解液溶脹、物相轉(zhuǎn)化產(chǎn)生的內(nèi)壓,抑制膜層開裂剝落等。因此,其與傳統(tǒng)Pb基涂層復(fù)合陽極相比,具有更高的膜層穩(wěn)定性和陽極服役壽命,且制備工藝簡單,容易實現(xiàn)工業(yè)化。
聲明:
“Pb基/3D?PbO2/MeOx復(fù)合陽極及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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