一種圓筒狀射流態(tài)直接電沉積設(shè)備及使用其電積金屬的方法，其中設(shè)備包括外層陰極管、內(nèi)層陽(yáng)極管、進(jìn)料液管和出料口，所述外層陰極管套設(shè)在所述內(nèi)層陽(yáng)極管之外；所述內(nèi)層陽(yáng)極管的一端密封，另一端與所述進(jìn)料液管密封連通；所述外層陰極管靠近所述進(jìn)料液管的一端與同一端的內(nèi)層陽(yáng)極管之間密封連接，所述外層陰極管的另一端連通所述出料口；所述內(nèi)層陽(yáng)極管上開設(shè)有連通所述外層陰極管和所述內(nèi)層陽(yáng)極管的陽(yáng)極管壁小孔。本發(fā)明可在大規(guī)模電沉積生產(chǎn)中的應(yīng)用，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化、連續(xù)化、大規(guī)?；I(yè)生產(chǎn)，又可實(shí)現(xiàn)礦石低品位，產(chǎn)出高品質(zhì)，低投資成本、高產(chǎn)出、低能耗、低碳排放、低污染環(huán)境友好型新技術(shù)。