本發(fā)明公開了一種面向鋅溶液痕量離子濃度檢測的掩蔽測試體系優(yōu)化方法,基于兩個(gè)約束條件構(gòu)建掩蔽優(yōu)化測試體系的單目標(biāo)。其操作為:先計(jì)算理論EDTA用量;然后根據(jù)理論EDTA用量選定范圍;然后研究EDTA用量、顯色劑亞硝基R鹽用量、測量體系的pH值對(duì)吸收光譜質(zhì)量的影響;定義兩個(gè)該體系下的優(yōu)化約束條件:EDTA用量轉(zhuǎn)折臨界點(diǎn)和R鹽無噪聲波長范圍,并建立擬合函數(shù);然后將建立的擬合函數(shù),整合成單目標(biāo)多變量的優(yōu)化測試體系模型;求解;得到優(yōu)化參數(shù),本發(fā)明得到的測試體系具有寬線性度、低檢測限、選擇性好和高靈敏度,不需要對(duì)鋅電解液進(jìn)行預(yù)分離,易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化,適合用于高濃度比背景下痕量離子濃度檢測的掩蔽劑的用量優(yōu)化。
聲明:
“面向鋅溶液痕量離子濃度檢測的掩蔽測試體系優(yōu)化方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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