本發(fā)明涉及在操作冶金處理過程中運行多介質供給管的方法,該供給管有至少兩個氣體,液體,可氣動輸送的固體物質及其任何混合物的進入通道,一或多根供給管安裝到相應反應爐內的冶金熔液液面下方和/或上方,其中至少一根多介質供給管在冶金處理操作期間暫時關閉其中至少一個介質進入通道內的介質供給或把其內的介質壓力降低到供入壓力的一半以下。
聲明:
“操作多種介質供給管的方法及其供給管系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)