本發(fā)明公開了一種利用電場(chǎng)效應(yīng)增強(qiáng)加工區(qū)域酸堿度的鍺平面鏡化學(xué)拋光方法,制造高介電常數(shù)真空吸盤和高介電常數(shù)拋光盤,在拋光盤和基盤的非工作端面涂上高溫銀漿,接上電極,絕緣處理;將鍺平面鏡真空吸附在多孔陶瓷基盤上,采用化學(xué)拋光液進(jìn)行拋光加工。本方法的拋光原理為使用高介電常數(shù)陶瓷拋光盤,在拋光盤和真空吸附陶瓷基盤接上電極后,在拋光區(qū)域產(chǎn)生強(qiáng)電場(chǎng),氫離子或氫氧根離子向工件表面移動(dòng),增強(qiáng)了工件表面酸堿度,提高了拋光液對(duì)工件表面的腐蝕性,在液動(dòng)壓流體的剪切作用下,對(duì)工件表面進(jìn)行化學(xué)非接觸拋光。本方法通過(guò)電場(chǎng)實(shí)現(xiàn)對(duì)工件表面的PH值可控,化學(xué)非接觸拋光提高了工件表面質(zhì)量,避免表面磨損。
聲明:
“利用電場(chǎng)效應(yīng)增強(qiáng)加工區(qū)域酸堿度的鍺平面鏡化學(xué)拋光方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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