真空脫水機(jī)用供料裝置 1216     

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本實(shí)用新型提供一種真空脫水機(jī)用供料裝置，包括供料裝置的主體，所述主體的內(nèi)部設(shè)置有篩料板，所述篩料板上連接有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸上連接有活動(dòng)軸套，所述活動(dòng)軸套上設(shè)置有多個(gè)與篩料板相適應(yīng)的葉片，所述轉(zhuǎn)軸上還設(shè)置有與活動(dòng)軸套相適應(yīng)的限位機(jī)構(gòu)，可以通過(guò)葉片與擠壓斜板相互配合在轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時(shí)將顆粒物料進(jìn)行收集并在擠壓斜板上進(jìn)行擠壓，迫使其完全破碎避免顆粒物料進(jìn)入真空脫水機(jī)損壞濾網(wǎng)，同時(shí)能夠通過(guò)篩料板將顆粒物料進(jìn)行存留并持續(xù)破碎極大地減少了顆粒物料進(jìn)入真空脫水機(jī)的情況。

以二氧化硅和氫氣為原料制備多晶硅的方法 1012     

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本發(fā)明涉及一種以高純二氧化硅和氫氣為原料制備多晶硅的方法，屬于非金屬礦深加工技術(shù)領(lǐng)域。以高純H₂為還原劑、以高純SiO₂為硅源，先在高溫1250?1300℃下通入H₂，使SiO₂被還原成SiO，O與H₂反應(yīng)生成H₂O；然后再升溫到1350℃通入H₂，把溫度控制在1350?1400℃之間。此時(shí)SiO被H₂還原成高純Si，SiO中的O與H₂發(fā)生氧化還原反應(yīng)后生成H₂O，整個(gè)制備過(guò)程對(duì)環(huán)境無(wú)任何污染。

具有保徑功能的金剛石壓塊 1064     

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本發(fā)明公開(kāi)了一種具有保徑功能的金剛石壓塊，包括金剛石壓塊主體，金剛石壓塊主體采用鍍鎳金剛石加工而成，所述金剛石壓塊主體摩擦面固定連接有橫向保徑條、縱向保徑條和耐磨層，橫向保徑條和縱向保徑條組成網(wǎng)狀保徑結(jié)構(gòu)，橫向保徑條和縱向保徑條上均固定連接有保徑齒，本發(fā)明金剛石壓板主體采用的鍍鎳金剛石，其鍍層與金剛石顆粒的結(jié)合力較純化學(xué)鍍其它只有物理包裹的鍍覆工藝產(chǎn)品更強(qiáng)，不易從基體上脫落，通過(guò)金剛石制品表面設(shè)置的耐磨層，可以延長(zhǎng)金剛石制品的使用壽命，通過(guò)設(shè)置的橫向保徑條、縱向保徑條、保徑齒一和保徑齒二進(jìn)一步提高了金剛石壓塊的耐磨性能，增加了金剛石制品的使用壽命。