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RVI-0.5T真空熔煉爐, 采用立式結(jié)構(gòu),由熔煉室、加料室、測(cè)溫裝置、合金添加裝置、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、熔煉系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、操作平臺(tái)等組成,可以在不破壞熔室真空的情況下裝放爐料、加合金料,實(shí)現(xiàn)半連續(xù)作業(yè),提高工作效率.同時(shí)該爐可澆注多個(gè)模具,加料室和測(cè)溫室采用電動(dòng)平移式,可全部自動(dòng)化操作。
RVI-300L采用立式結(jié)構(gòu),由熔煉室、冷卻室、加料室、測(cè)溫裝置、合金添加裝置、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、熔煉系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、操作平臺(tái)等組成,熔煉室、加料室和冷卻室真空閘閥隔開(kāi),可以在不破壞熔室真空的情況下裝放爐料、加合金料、取出鋼錠或鑄件等,實(shí)現(xiàn)連續(xù)作業(yè),提高工作效率。 廣泛用于科研和生產(chǎn)部門對(duì)鎳基及其特殊鋼、精密合金、高溫合金、有色金屬及其合金的研究與生產(chǎn)。
RVI-250真空感應(yīng)熔煉爐是在真空條件下利用中頻感應(yīng)加熱原理,使金屬熔化的真空冶煉成套設(shè)備。廣泛用于科研和生產(chǎn)部門對(duì)鎳基及其特殊鋼、精密合金、釹鐵硼、金屬鏑、活潑金屬、高溫合金、儲(chǔ)氫材料、磁性材料、有色金屬及其合金的研究與生產(chǎn).采用半連續(xù)結(jié)構(gòu),由真空熔煉室、熔煉裝置、爐門平移裝置、真空系統(tǒng)、熔煉電源、自動(dòng)控制系統(tǒng)、多工位觀察窗、水冷系統(tǒng)、工作平臺(tái)等組成。
RVI-50真空感應(yīng)熔煉爐是在真空條件下利用中頻感應(yīng)加熱原理,使金屬熔化的真空冶煉成套設(shè)備。廣泛用于科研和生產(chǎn)部門對(duì)鎳基及其特殊鋼、精密合金、釹鐵硼、金屬鏑、活潑金屬、高溫合金、儲(chǔ)氫材料、磁性材料、有色金屬及其合金的研究與生產(chǎn).采用立式結(jié)構(gòu),由真空熔煉室、熔煉裝置、旋轉(zhuǎn)式鑄模裝置、真空系統(tǒng)、熔煉電源、自動(dòng)控制系統(tǒng)、多工位觀察窗、水冷系統(tǒng)、工作平臺(tái)等組成。
RVI-25真空感應(yīng)熔煉爐是在真空條件下,利用中頻感應(yīng)加熱原理,使金屬熔化的真空冶煉成套設(shè)備。廣泛用于科研和生產(chǎn)部門對(duì)鎳基及其特殊鋼、精密合金、釹鐵硼、金屬鏑、活潑金屬、高溫合金、儲(chǔ)氫材料、磁性材料、有色金屬及其合金的研究與生產(chǎn).采用立式結(jié)構(gòu),由真空熔煉室、熔煉裝置、鑄模裝置、真空系統(tǒng)、熔煉電源、自動(dòng)控制系統(tǒng)、多工位觀察窗、水冷系統(tǒng)、工作踏臺(tái)等組成。
RVI-10真空感應(yīng)熔煉爐是在真空條件下,利用中頻感應(yīng)加熱原理,使金屬熔化的真空冶煉成套設(shè)備。廣泛用于科研和生產(chǎn)部門對(duì)鎳基及其特殊鋼、精密合金、釹鐵硼、金屬鏑、活潑金屬、高溫合金、儲(chǔ)氫材料、磁性材料、有色金屬及其合金的研究與生產(chǎn).采用立式結(jié)構(gòu),由真空熔煉室、熔煉裝置、鑄模裝置、真空系統(tǒng)、熔煉電源、自動(dòng)控制系統(tǒng)、多工位觀察窗、水冷系統(tǒng)、工作踏臺(tái)等組成。
RVI-2.0T真空熔煉爐, 采用立式結(jié)構(gòu),由熔煉室、加料室、測(cè)溫裝置、合金添加裝置、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、熔煉系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、操作平臺(tái)等組成,可以在不破壞熔室真空的情況下裝放爐料、加合金料、取出鋼錠或鑄件等,實(shí)現(xiàn)連續(xù)作業(yè),提高工作效率.同時(shí)該爐可澆注多個(gè)模具,加料室和測(cè)溫室采用電動(dòng)平移式,可全部自動(dòng)化操作。
RVI-1.0T真空熔煉爐, 采用立式結(jié)構(gòu),由熔煉室、加料室、測(cè)溫裝置、合金添加裝置、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、熔煉系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、操作平臺(tái)等組成,可以在不破壞熔室真空的情況下裝放爐料、加合金料,實(shí)現(xiàn)半連續(xù)作業(yè),提高工作效率.
RVI-1.5T真空熔煉爐, 采用立式結(jié)構(gòu),由熔煉室、加料室、測(cè)溫裝置、合金添加裝置、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、熔煉系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、操作平臺(tái)等組成,可以在不破壞熔室真空的情況下裝放爐料、加合金料、取出鋼錠或鑄件等,實(shí)現(xiàn)連續(xù)作業(yè),提高工作效率.同時(shí)該爐可澆注多個(gè)模具,加料室和測(cè)溫室采用電動(dòng)平移式,可全部自動(dòng)化操作。
2BE系列液環(huán)真空泵及壓縮機(jī)用于抽吸不含固體顆粒,不溶于水,無(wú)腐蝕性的氣體,以便在密封容器中形成真空和壓力。 通過(guò)改變結(jié)構(gòu)材料,亦可用于抽吸腐蝕氣體或以腐蝕液體作工作液。 廣泛用于造紙、化工、輕工、石化、制藥、食品、冶金、建材、電器、洗煤、選礦、化肥等行業(yè)。
金屬油擴(kuò)散泵是利用低壓、高速和定向流動(dòng)的油蒸汽射流抽氣的真空泵,是獲得高真空的主要設(shè)備,廣泛用于真空冶煉、真空鍍膜、空間模擬實(shí)驗(yàn)和對(duì)油污染不敏感的一些真空系統(tǒng)中。
滑閥真空泵廣泛應(yīng)用于太陽(yáng)能、單晶生產(chǎn)爐制藥、電子、冶煉、陶瓷、航空、實(shí)驗(yàn)室等多種場(chǎng)合,真空鍍膜、真空干燥、真空脫氣、真空浸漬、真空燒結(jié)、真空熱處理、真空濃縮、真空反應(yīng)、真空模擬試驗(yàn)等真空作業(yè)上。
升降爐(燒結(jié)爐)作為周期性生產(chǎn)窯爐,專門設(shè)計(jì)用于電子陶瓷元件、磁性材料、陶瓷材料、納米粉體等產(chǎn)品的預(yù)燒和燒結(jié),以及特種陶瓷元件在保護(hù)氣氛下的燒結(jié)工藝,也可滿足ITO靶材高溫?zé)Y(jié)藍(lán)寶石、石英制品的退火工藝。窯爐具有控溫穩(wěn)定、溫度均勻、產(chǎn)量大、節(jié)能等特點(diǎn),非常適合于企業(yè)的大批量生產(chǎn)之用。
該回轉(zhuǎn)窯用于粉體物料的煅燒。采取外加熱方式,滾筒轉(zhuǎn)速、傾角、給料速度、滾筒內(nèi)氣氛可調(diào),爐膛溫度自動(dòng)控制。整體支座結(jié)構(gòu),可以整體起吊、運(yùn)輸。
VHT真空回火爐適用范圍:磁性材料、不銹鋼、有色金屬等材料的光亮回火。特別適用于對(duì)長(zhǎng)桿形零件、軸類、板類零件等大型易變形工件的真空回火工藝。
真空脫脂爐特點(diǎn):脫氣,脫蠟,燒結(jié)連續(xù)處理:因爐內(nèi)設(shè)有密封箱,脫脂時(shí)的蠟揮發(fā)物不會(huì)粘著在爐壁及斷熱層,而是被排出爐外,防止污染。
該真空爐是用石墨作發(fā)熱元件的真空電阻爐,主要應(yīng)用于氮化鋁粉體制備等在真空或反應(yīng)氣氛中高溫?zé)Y(jié),也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫?zé)崽幚砘蛸F金屬材料的除氣處理。
該真空爐是用石墨作發(fā)熱元件的真空電阻爐,主要應(yīng)用于氮化鋁粉體制備等在真空或反應(yīng)氣氛中高溫?zé)Y(jié),也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫?zé)崽幚砘蛸F金屬材料的除氣處理。
氫氣爐可用于特殊合金、陶瓷材料、貴金屬材料等在保護(hù)氣氛下進(jìn)行燒結(jié)、熱處理、熔化與澆鑄??蔀樘胤N陶瓷、電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷、功能陶瓷、壓電陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色熒光粉、拋光粉、金屬熱處理等行業(yè)提供 300 ~ 1700 ℃溫度范圍的各種加熱條件。
氮?dú)鉅t可用于特殊合金、陶瓷材料、貴金屬材料等在保護(hù)氣氛下進(jìn)行燒結(jié)、熱處理、熔化與澆鑄??蔀樘胤N陶瓷、電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷、功能陶瓷、壓電陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色熒光粉、拋光粉、金屬熱處理等行業(yè)提供 300 ~ 1700 ℃溫度范圍的各種加熱條件。
氣氛爐可用于特殊合金、陶瓷材料、貴金屬材料等在保護(hù)氣氛下進(jìn)行燒結(jié)、熱處理、熔化與澆鑄。可為特種陶瓷、電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷、功能陶瓷、壓電陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色熒光粉、拋光粉、金屬熱處理等行業(yè)提供 300 ~ 1700 ℃溫度范圍的各種加熱條件。
氫氣爐可用于特殊合金、陶瓷材料、貴金屬材料等在保護(hù)氣氛下進(jìn)行燒結(jié)、熱處理、熔化與澆鑄??蔀樘胤N陶瓷、電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷、功能陶瓷、壓電陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色熒光粉、拋光粉、金屬熱處理等行業(yè)提供 300 ~ 1700 ℃溫度范圍的各種加熱條件。
氣氛燒結(jié)爐可用于特殊合金、陶瓷材料、貴金屬材料等在保護(hù)氣氛下進(jìn)行燒結(jié)、熱處理、熔化與澆鑄??蔀樘胤N陶瓷、電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷、功能陶瓷、壓電陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色熒光粉、拋光粉、金屬熱處理等行業(yè)提供 300 ~ 1800 ℃溫度范圍的各種加熱條件。
氣氛燒結(jié)爐可用于特殊合金、陶瓷材料、貴金屬材料等在保護(hù)氣氛下進(jìn)行燒結(jié)、熱處理、熔化與澆鑄??蔀樘胤N陶瓷、電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷、功能陶瓷、壓電陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色熒光粉、拋光粉、金屬熱處理等行業(yè)提供 300 ~ 1800 ℃溫度范圍的各種加熱條件。
壓力燒結(jié)爐主要供企業(yè)在高氣壓保護(hù)氣氛條件下對(duì)陶瓷(如碳化硅、氧化鋯、氧化鋁、氮化硅等)及金屬材料(如硬質(zhì)合金)等進(jìn)行熱等靜壓燒結(jié)處理,同時(shí)也適用大專院校、科研單位進(jìn)行中試批量生產(chǎn)用。適用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高壓氮?dú)饣驓鍤鈿夥諆?nèi)進(jìn)行燒結(jié)。有利于增加材料的燒結(jié)密度,提高材料的機(jī)械性能。
氣壓燒結(jié)爐主要供企業(yè)在高氣壓保護(hù)氣氛條件下對(duì)陶瓷(如碳化硅、氧化鋯、氧化鋁、氮化硅等)及金屬材料(如硬質(zhì)合金)等進(jìn)行熱等靜壓燒結(jié)處理,同時(shí)也適用大專院校、科研單位進(jìn)行中試批量生產(chǎn)用。適用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高壓氮?dú)饣驓鍤鈿夥諆?nèi)進(jìn)行燒結(jié)。有利于增加材料的燒結(jié)密度,提高材料的機(jī)械性能。
壓力爐主要供企業(yè)在高氣壓保護(hù)氣氛條件下對(duì)陶瓷(如碳化硅、氧化鋯、氧化鋁、氮化硅等)及金屬材料(如硬質(zhì)合金)等進(jìn)行熱等靜壓燒結(jié)處理,同時(shí)也適用大專院校、科研單位進(jìn)行中試批量生產(chǎn)用。適用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高壓氮?dú)饣驓鍤鈿夥諆?nèi)進(jìn)行燒結(jié)。有利于增加材料的燒結(jié)密度,提高材料的機(jī)械性能。
G4氣壓燒結(jié)爐主要供企業(yè)在高氣壓保護(hù)氣氛條件下對(duì)陶瓷(如碳化硅、氧化鋯、氧化鋁、氮化硅等)及金屬材料(如硬質(zhì)合金)等進(jìn)行熱等靜壓燒結(jié)處理,同時(shí)也適用大專院校、科研單位進(jìn)行中試批量生產(chǎn)用。適用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高壓氮?dú)饣驓鍤鈿夥諆?nèi)進(jìn)行燒結(jié)。有利于增加材料的燒結(jié)密度,提高材料的機(jī)械性能。
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