本發(fā)明提供一種監(jiān)控化學(xué)氣相沉積前腔體潔凈度的方法,其利用一種會因為腔體潔凈度而導(dǎo)致消光系數(shù)值產(chǎn)生變化的材質(zhì)如氮氧化硅來作為一監(jiān)控層,通過經(jīng)過兩次不同時間長度的清洗工藝后所沉積氮氧化硅層進行消光系數(shù)值測量,觀察兩氮氧化硅層的消光系數(shù)值的差異,來對腔體潔凈度進行監(jiān)控,以簡便的方式控制腔體的潔凈度,降低了因微塵粒而產(chǎn)生組件失效的危險,提高了效率。
聲明:
“監(jiān)控化學(xué)氣相沉積前腔體潔凈度的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)