本發(fā)明公開了一種實時監(jiān)測
多晶硅沉積工藝過程氧氣濃度的裝置,適用于爐管工藝多晶硅沉積機臺,所述爐管工藝多晶硅沉積機臺包括反應爐管、與所述反應爐管相連接的氣體外出管路以及泵,其中,所述氣體外出管路上設有支聯(lián)裝置,所述支聯(lián)裝置內(nèi)設有氧氣敏感器。本發(fā)明能夠在第一時間有效地監(jiān)測爐管機臺反應爐管內(nèi)部氧氣濃度的變化情況,避免因反應爐管微漏氣造成的晶圓器件失效而導致的報廢。通過使用本發(fā)明能夠節(jié)省機臺維護保養(yǎng)復機時間約2h,提升機臺產(chǎn)能,直接反應機臺狀況。
聲明:
“實時監(jiān)測多晶硅沉積工藝過程氧氣濃度的裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)