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p型摻雜6H-碳化硅晶體的無損判定方法

1109 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 08:58:00

本發(fā)明涉及一種p型摻雜6H?碳化硅晶體的無損判定方法，使用變溫拉曼光譜，對待測的p型摻雜6H?SiC晶體樣品進行光譜測量，探測光的入射方向為沿SiC晶片的（0001）方向，變溫測量為室溫到673K溫度范圍，溫度間隔為50K。分析對比載流子敏感的A1縱向光學模，根據(jù)其強度及峰位的變化，可以判斷樣品是否為p型摻雜。有益效果是采用基于光譜分析法，對p型Al摻雜6H?碳化硅晶體的載流子濃度進行檢測和分析，無需像霍爾測量一樣的鍍電極，對待測樣品無損傷，檢測過程可實現(xiàn)自動化和程序控制，可對出廠產(chǎn)品進行全面檢驗，也可應用于目前市場存在的2、3、4、6英寸完整晶圓產(chǎn)品檢驗。

聲明：

“p型摻雜6H-碳化硅晶體的無損判定方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)