一種實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)無(wú)損測(cè)試儲(chǔ)層zeta電位的方法,清潔處理二氧化硅半球樣品,放置二氧化硅樣品進(jìn)入樣品池;啟動(dòng)二次諧波光譜設(shè)備,并開(kāi)始進(jìn)行波數(shù)和能量檢查;首先測(cè)試二氧化硅半球單獨(dú)存在下去離子水和目標(biāo)溶液的二次諧波光譜信號(hào)強(qiáng)度;放置儲(chǔ)層樣品進(jìn)入樣品池,獲取總體樣品存在下的信號(hào)強(qiáng)度:測(cè)量的總體樣品信號(hào)強(qiáng)度減去二氧化硅樣品強(qiáng)度得到儲(chǔ)層的二次諧波樣品強(qiáng)度;二次諧波信號(hào)強(qiáng)度歸一化處理;進(jìn)行儲(chǔ)層二次諧波的pH滴定實(shí)驗(yàn),獲取儲(chǔ)層等電點(diǎn)(pzc)性質(zhì),依次確定二階磁化率的大小χ(2);數(shù)學(xué)計(jì)算得到儲(chǔ)層的zeta電位;本發(fā)明能夠?qū)崟r(shí)動(dòng)態(tài)無(wú)損測(cè)試在任何溶液環(huán)境下儲(chǔ)層的zeta電位,彌補(bǔ)了以往zeta電位儀測(cè)量在高濃度和高pH值失效的不足。
聲明:
“實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)無(wú)損測(cè)試儲(chǔ)層zeta電位的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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