本發(fā)明涉及一種高效紫外發(fā)光閃爍體
納米材料及其制備方法和應(yīng)用,所述的紫外發(fā)光閃爍體納米材料為Ce3+/Gd3+共摻雜的LiLuF4納米晶,可通過高溫共沉淀方法制備得到;該材料在X射線激發(fā)下具有優(yōu)異的Ce3+紫外發(fā)光(300?350 nm),可用作輻射閃爍發(fā)光的理想基質(zhì)材料;并且,該材料可通過Gd3+和Ce3+的能量傳遞作用,顯著提升X射線激發(fā)的紫外發(fā)光性能;本發(fā)明還公開了該材料在分子光激活領(lǐng)域的應(yīng)用,利用X射線激發(fā)的紫外發(fā)光激活前體分子釋放一氧化氮。因此,該閃爍體納米材料具有高效紫外發(fā)光、形貌可控性、良好生物相容性等優(yōu)點,在輻射探測、光化學(xué)反應(yīng)、X射線診療領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
聲明:
“高效紫外發(fā)光閃爍體納米材料及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)