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二維過渡金屬硫族化合物晶體及其制備方法和用途

825 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 08:23:05

本發(fā)明涉及一種二維過渡金屬硫族化合物晶體及其制備方法和用途，所述制備方法包括如下步驟：(1)在加熱裝置中，沿著氣流方向依次放置硫族單質源和過渡金屬氧化物源；所述過渡金屬氧化物源的表面覆蓋有分子篩；所述過渡金屬氧化物源的上方放置有生長基底；(2)向所述加熱裝置中通入保護性氣體，升溫至所述過渡金屬氧化物源的溫度達到化學氣相沉積溫度、硫族單質源的溫度達到單質揮發(fā)溫度，進行化學氣相沉積，得到所述二維過渡金屬硫族化合物晶體。通過本發(fā)明的方法能夠制備得到大面積、均勻的單層或多層二維過渡金屬硫族化合物晶體，能夠用于偏振光電探測或拓撲場效應晶體管。

聲明：

“二維過渡金屬硫族化合物晶體及其制備方法和用途” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)